資源庫 / 1月8日消息，據(jù)國家知識產(chǎn)權(quán)局公告，湖南華曙高科技股份有限公司申請一項名為“一種雙光學系統(tǒng)避風分區(qū)掃描方法、裝置及增材制造設(shè)備”，公開號CN117340277A，申請日期為2023年9月。專利摘要顯示，這項技術(shù)可以通過特定的計算與掃描過程，減少雙光學掃描系統(tǒng)的避風等待時間，提高工件的燒結(jié)效率。

資源庫 / 1月8日消息，據(jù)國家知識產(chǎn)權(quán)局公告，湖南華曙高科技股份有限公司申請一項名為“一種雙光學系統(tǒng)避風分區(qū)掃描方法、裝置及增材制造設(shè)備”，公開號CN117340277A，申請日期為2023年9月。專利摘要顯示，這項技術(shù)可以通過特定的計算與掃描過程，減少雙光學掃描系統(tǒng)的避風等待時間，提高工件的燒結(jié)效率。